製品紹介

洗浄の重要性

「ディップコートが初めて」「複雑な形状のワーク」「どんなコート剤を使えば良いの?」「最適な条件で塗布したい」についてご紹介してまいりましたが、それでも塗布結果がうまくいかない場合は、塗布前の洗浄・改質を疎かにしていませんか?

弊社は、ディップコーティング装置メーカーとして必須な工程である洗浄/改質装置もこれまで多くの装置を手掛けて参りました。

塗布前のワークに付着した汚れを落とすこと(洗浄)・濡れ向上の親水化処理(改質)は、塗布前のワークに付着した汚れを落とすこと(洗浄)・濡れ向上の親水化処理(改質)は、目に見えない領域のため十分な理解が得られず工程が疎かになりがちです。

「塗布結果が上手くいかない」=「良質な塗布膜で無い」

では良質な塗布膜とは?弊社では簡潔に次の2点であると考えます。

・綺麗な膜であること:膜ムラ、タレ、欠損(弾き・窪み・ピンホール)、液溜まり、偏差が少ないこと。

・耐久性が十分であること:基材と塗料が十分に密着していること。

これを実現させるためには、目に見えない汚れの除去と濡れ性向上(改質)のための前処理が必須となり、塗料の性能を十分に発揮させるためにも必要な要素と言えます。

ウエット・ドライのそれぞれ代表的なプロセスをご紹介致します。

ウエットプロセス:超音波洗浄とは

超音波洗浄とは、キャビテーションと呼ばれる気泡が破裂する際の衝撃波を利用する洗浄方法で、洗浄方法の中では最も一般的な方法です。

油分や乾燥固着している汚れ、パーティクル(微小なゴミ)、埃等の除去に利用され万能な洗浄方法です。

付着している汚れ成分により洗浄剤を選び、汚れの大きさにより周波数を変えることがポイントです。

[周波数別のパーティクル除去率]

サイズ (μ)

25kHz

40kHz

75kHz

9割

9割弱

7割

8割

9割弱

9割弱

8割弱

9割強

9割

7割弱

8割弱

9割

6割強

8割弱

9割強

上記のことから実験装置は40kHz前後を選定することが多く、生産装置では低周波で処理し徐々に高周波で処理を行うことで、大きな汚れから最終的に微細な汚れまで除去できる周波数を選定する方法が一般的です。

超⾳波洗浄装置

※テスト段階では理化学機器メーカーの装置をお勧めいたしております。

●洗浄槽数:8槽

●洗浄対象:レンズ製品

●洗浄⼯程:

アルカリ洗浄(超⾳波)

市⽔すすぎ(超⾳波)

純⽔洗浄(超⾳波)

溶剤置換(超⾳波)

エタノール混合溶剤(超⾳波+べーパー乾燥)

[特⻑]

●量産型の全⾃動洗浄装置

●ハードコート前の仕上洗浄としての⾼い洗浄⼒を誇ります。

●完全な⾃動機なので⼈⼿もかからず、⾼い⽣産能⼒と安定した洗浄品質を両⽴させています。

11槽式シャワー・超⾳波併⽤型洗浄装置

●対象物:レンズ製品

●洗浄⼯程:

アルカリ洗浄(超⾳波)

市⽔すすぎ(シャワー)

中性洗剤(超⾳波)

市⽔すすぎ(シャワー)

純⽔洗浄(超⾳波)

IPA置換(超⾳波)

IPAべーパー

温⾵乾燥

[特⻑]

●セミ量産型の半⾃動機でありながら、研磨後の洗浄にも対応できる⾼い洗浄⼒を兼ね備えています。

●研磨剤の性状に応じて洗剤洗浄も2⼯程を繰り返し、市⽔・純⽔すすぎを経て残留物を完全に除去します。

●すすぎ後はIPA洗浄(複数槽)を⾏い、最後にIPAべーパーと温⾵乾燥でパーフェクトに仕上げます。

●⼿吹き洗浄に代わる半⾃動型の洗浄装置として、難硝材等のレンズでも安⼼して使⽤できます。

4槽式超音波洗浄装置

●対象物:樹脂成型品

●洗浄⼯程:

洗剤洗浄(超⾳波)

市⽔すすぎ(超⾳波)

純⽔仕上げ(超⾳波)

エアーブロー乾燥

[特⻑]

●樹脂成型品⽤の洗浄装置です。

●⼤きなワークにも対応できるように、バスケットや洗浄槽は深めに設計してあります。

また、超⾳波も有効到達距離が⻑いものを選定しており、洗浄槽内の全域で安定した洗浄⼒を維持します。

●⽐較的⼤きなバスケットサイズ(幅400×奥⾏750×深さ750)でありながら、処理タクトに合わせて搬送装置を簡素化し、洗浄槽の数も必要最⼩限に抑えたコストカット型の⼀例です。

ドライプロセス:UV/オゾン洗浄・改質とは

UV(紫外線)/ オゾン洗浄・改質は、ドライ洗浄の代表的な手法です。

ここでご紹介する紫外線は、低圧水銀ランプから発せられる紫外線でこの低圧水銀ランプは、185nmと254nmの波長を効率よく放射する紫外線ランプです。

185nmの波長はオゾン線、254nmの波長は殺菌線と呼ばれ、洗浄や改質、殺菌など幅広い用途で使用されています。

●ドライ洗浄・改質のメカニズムはこちらをクリック

●ウエット・ドライ洗浄効果による濡れ性変化はこちらをクリック

UV/オゾン洗浄改質実験装置:SKB1101N

実験設備として最適なスペック

230×190(mm)までのワークが載せられます。

ランプ出力:110W

ランプ面積:160×160(mm)

※推奨照射エリア:100×100(mm)

[装置構成]

●照射器本体

●電源BOX

●オゾン排気用ブロワ

●排風量調整用手動ダンパー

●オゾン排気用塩ビダクトホース×2本

[基本仕様]

外形寸法 (mm)

照射器:W300×D330×H355

電源BOX:W185×D525×H150

ランプ種類

低圧水銀ランプ

ランプワット

110W

主波長

185nm・254nm

試料台サイズ (mm)

230×190

試料台ピッチ (mm)

10ピッチ 棚段式 最大100mm

※試料台とランプとの距離調整のことをいいます。

装置重量

照射器:約8kg

電源BOX:約10kg

電源

AC100V 50/60Hz共用

紫外線安全対策

のぞき窓:UVカット機能付き

扉:リミットスイッチ機能で開時ランプ消灯・点灯しない

※上記以外のワークサイズに対応した装置も取り揃えております。

 お気軽にお問合せ下さい。

量産用UV/オゾン洗浄改質装置

量産設備としては、ワークサイズなどの条件に合わせたランプを選定し、ユニットタイプ、セミバッチタイプ、コンベアタイプを各仕様ごとに製作致します。

[タイプ別低圧水銀ランプ]

[ランプユニットタイプ]

[セミバッチタイプ]

[コンベアタイプ]

〒113-0033 東京都文京区本郷二丁目22-3 MMCビル5F

TEL.03-3830-6858

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